/日本工業出版(株)/

■特集:超純水と半導体洗浄の先端技術
○なぜラボ用純水・超純水装置ではパーティクルフリー水を採水できないのか
/ヴェオリア・ジェネッツ㈱　黒木祥文

○ICP-MS分析に求められる超純水
/メルク㈱　石井直恵

○最新の超純水中の不純物分析技術動向
/オルガノ㈱　椙原健司

○SPMを代替えする高濃度オゾン水によるレジスト剥離
/野村マイクロ・サイエンス㈱　自在丸隆行

○化学品消費量を削減するサステナブルなウエハ洗浄
/Siconnex Japan(同)　八尋大輔

○バッチ式ウエハ洗浄装置内水流解析と設計の視点
/横浜国立大学　羽深等

○原子間力顕微鏡による砥粒-洗浄ブラシ間相互作用の解析
/金沢大学　福間剛士

○超純水を利用した半導体基板の最終表面仕上げ技術
/大阪大学　藤大雪


■解説
○クリーン機器におけるカーボンフットプリント(CFP)の算出と運用について
/日本エアーテック㈱　川口颯斗

○硫化鉛量子ドット太陽電池の世界最高性能を達成
/電気通信大学　沈青・丁超・劉東

○列車風が室内のCO₂濃度に与える影響に関する研究
/芝浦工業大学　西村直也
/国士舘大学　南泰裕

○連続波レーダによる非接触呼吸・心拍計測技術とその応用
/電気通信大学　孫光鎬・黒沢正樹

○プラズマが誘起する表面反応の理解と反応制御による膜作製
/福岡大学　篠原正典

○エアコン室外機群の3次元気流構造
/北海道大学　村井祐一・大須賀侑
/東京農工大学　大友衆示
/㈱ヤブシタ　山口哲太

○埃の静電特性とその堆積量
/岩谷学園　大谷昌生
/神奈川工科大学　金井徳兼

○食品分野での過熱水蒸気の利用
/大阪公立大学　伊與田浩志


■「SEMICON®Japan 2024」展示会の見どころ
/SEMIジャパン　佐藤秀一(資料請求No.030)