/日本工業出版(株)/

■特集:半導体製造工程における計測器
○干渉式リアルタイム膜厚モニタ/堀場製作所/紺野象二郎

　近年の半導体デバイス製造工程においては、加工精度を向上させるために高度なプロセスモニタ技術が必要となってきている。堀場製作所ではエッチング/成膜工程において膜厚変化をモニタできる干渉式リアルタイムモニタを提案する。

○プラズマ発光分析エンドポイントモニタ/堀場製作所/飯田 裕/HORIBA JOBIN YVON S.A.S/Eric Bluen

　低開口プロセスの終点検知の要求のために、新規設計分光システムを採用し、独自の終点検出アルゴリズムを採用した発光分析終点検知モニタEV-140Cを提案する。また解析支援ソフトウエアにより、プロセスエンジニアリング作業効率を向上させる機能を紹介する。

○真空計測機器/アルバック/青柳秀勝

　半導体前工程では、PVD, CVD装置など真空を用いているが、これら装置での真空の管理には、真空計、分圧計を用いて量と質のモニタが重要である。それぞれの機器の特性を理解し、選定し使用することが大切である。

○非接触式金属膜厚測定装置/アルバック/青柳秀勝・陳 凱

　半導体前工程、配線プロセスのPVD、メッキ、CMPなどの半導体製造装置向けの金属膜厚測定装置。渦電流方式を採用し、非接触、非破壊を可能とした測定装置を紹介する。

○その場モニタリングシステム/丸文/成毛祐一

　エピタキシャル成長装置におけるプロセス中のウエハデータを一括管理することが可能、ウエハ表面温度、成膜速度、基板反りなどを多機能にわたり測定し、最新ソフトウェアにて制御・解析が出来る。ユーザーの幅広い要望に答えることが可能なシステムである。

○毒性ガスセンサについて/理研計器/森阪秀一

　半導体製造に使用されるガスは危険性や有害性の高いものが多く、警告デバイスと位置付けられるガスセンサが安全確保のために果たす役割は大きい。本稿ではガスセンサの構造・原理や安定稼動を確保するために必要となる留意点について紹介する。

○次世代マスフローコントローラ/堀場エステック/安田忠弘

　ガスの質量流量を制御するマスフロ-コントローラの流量センサにはサーマル方式が用いられてきた。次世代プロセスの要求に答えるべく、圧力から流量を計算する圧力式次世代マスフローコントローラを開発した。

○ウエットプロセスにおける薬液濃度モニタ/堀場製作所/横山一成

　当社では、半導体製造プロセスに不可欠なウエット洗浄プロセスに使われている薬液濃度モニタの販売を1995年より本格的に始め、ラインナップ化に力を注いできた。現在の主力製品であるCS-100/100F1シリーズとCM-200Aシリーズについて紹介する。

○半導体製造・ウエットプロセスにおける超音波流量計/東京計装/稲田 豊

　製造コスト低減や環境負荷低減のためには、薬液・純水使用量制御が重要課題となっている。そこで、それらの流量を正確かつ迅速に測定・制御できる超音波流量計製品・システムを紹介する。

○露点計/山武/井端一雅

　半導体製造現場で用いられるプロセスガスに対し、「1ppmの水分量」「-80℃の露点」等という数字をよく耳にするが、こういった乾燥気体の水分量計測には、いろいろな課題がある。そこで、半導体製造工程で求められる気体の水分量管理について整理してみた。

■製品と技術
○超小型インライン近赤外分析計/兼松KGK/岡田尚史

　工場内の生産工程の配管上で多成分を瞬時にオンラインで高精度に測定できる装置がドイツで開発され日本でも導入が進んでいる。現場での測定データをモニタのみならず、フィードバック、フィードフォワードで品質安定向上にいかしている。その技術を紹介する。

○制御性の向上と小型化を実現したコントローラ/東邦電子/斉藤 隆

　多機能化と制御性を向上させた、新型デジタル調節計「TTM-200シリーズ」についての特長や環境配慮設計について紹介する。

○USB2.0対応 非絶縁型デジタル入出力ターミナル/コンテック

　パソコンにデジタル信号の入力または出力機能を拡張するUSB2.0対応のターミナルを紹介する。USBのバスパワー駆動により外部からの電源供給が不要、また、専用ライブラリのプラグインでLabVIEWのデータ収録デバイスとしても使用できる。

■連載
○PID制御応用(その2):燃焼制御 第1回/ワイド制御技術研究所/広井和男

　現在の産業構造はエネルギー多消費型となっている。この産業構造を支える燃焼制御について連載し、詳しく説明を展開していく。第1回目では燃焼制御の3つの課題、(1)省エネルギー、(2)地球環境汚染防止、(3)速応化(本格的フレキシブル生産)について考える。

○電気の世紀へ 第60回/松本栄寿

　初めに発明された点接触型トランジスタは、安定度が悪く実用性に乏しかった。ショックレーはトランジスタの動作理論を確立し、同時に接合型トランジスタを生み出す。ベル研究所は、1952年にトランジスタのライセンス契約を促すシンポジウムを開催する。参加費25,000ドルであった。日本企業の姿はなかったが、後にソニー井深氏がライセンスを獲得する。ショックレーは独立し半導体研究所をパロアルトに設立する。シリコンバレーの発端である。

○ガス流量計測のはなし 第36回/東京メータ/小林 駿

　「わかる流体力学(12)」では、今回より静的流体力学を主に述べる。今回は、圧力、特に空気圧(大気)について解説する。ガス燈「岡山市のガス燈」をコラム欄では、「アルキメデスの原理」について解説する。

■シリーズ:材料 第8回
○MATERIAL FOR THE FUTURE/日本タングステン/寺本修一

　新たな製法による純タングステン新材料を開発した。この製法によれば、従来の製法に比べて大型・複雑形状品が可能となるばかりではなく、純度、密度、物理的特性等材料特性も従来と同等以上となった。現在、基礎技術を確立し各用途で材料評価を実施している。

■連載コラム
○社長の独り言 第16回/とげぬき地蔵

■JEMIMAインフォメーション
○温度計測委員会設立40周年/日本電気計測器工業会

■製品ガイド
○計測展 OSAKAのみどころ/編集部