光アライアンス 2008年12月号 PDF版

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■特集:レーザを用いた加工技術
○汎用レーザ加工機による微細加工/金沢大学/上田隆司

 汎用のレーザ加工機を用いて微細加工を行う方法について検討している。アクリル樹脂に対して吸収特性の優れたEr:YAGレーザを用いることによりマイクロレンズを製作し、そのマイクロレンズを用いてレーザ照射用マスクを成形し、効率的な微細加工を行う方法の開発を目指している。


○超短パルスレーザーによる極薄FPDガラス用スクライバー/サイバーレーザー/高砂一弥・鎌田将尚・今鉾友洋・井上典洋・輪湖杉生・辻川 晋・住吉哲実・関田仁志

 現在、中小型モバイル用ディスプレイは、200μmを下回る極薄ガラスが使用されてきているが、従来技術の適用が困難である。サイバーレーザーでは超短パルスレーザーを用いた新たな薄型ガラスに適用可能なFPDガラスダイシング技術を開発したので紹介する。


○フェムト秒レーザーによる超硬の微細加工の試み/長岡技術科学大学/伊藤義郎・田辺里枝

 現在、我々も、超硬に対するフェムト秒レーザ加工を試みている。加工条件を適切に設定できれば、十分実用に耐えると思われる加工精度や面粗さ、加工速度が得られることがわかったが、パルスエネルギーや焦点位置、繰返し、ビームの走査速度や走査方法、経路などの影響については、まだ良く理解できていない。本稿では、フェムト秒レーザによる超硬の微細加工に関する、我々の研究の現状について紹介したい。



■製品特集:半導体評価に役立つレーザー装置
○ウェーハ表面検査装置WMシリーズ/トプコン/高瀬壮宏

 ノンパターン・ウェーハ表面検査装置WMシリーズの紹介。半導体製造の歩留りに大きく影響を与える微小なパーティクル・欠陥の検出に用いられる、レーザ散乱方式のウェーハ表面検査装置「WMシリーズ」について、その検出原理や製品の特徴を紹介する。


○半導体レーザ平行光源ユニット/パルステック工業/氏家雅彦

 パルステックの半導体レーザ平行光源ユニットは、光ディスク関連装置のニーズから開発された光源であり、波面の優れたコリメート光源、干渉計用途の基準光源、ホログラム用途の可干渉性光源がある。



■解説
○シュリンクフィッタを用いたマルチポリゴン方式レーザ走査装置/新潟県工業技術総合研究所/菅野明宏/新潟大学/新田 勇/オプセル/小俣公夫・井口 敏

 複数のレーザスキャナを並列に配置し、その走査ラインを接続するマルチポリゴン走査方式を開発した。本方式は解像度と走査面積をフレキシブルに選択することが可能で、広い面積に対しても高精細な描画を実現する。本稿では、システム概要と描画例を紹介する。


○半導体のフェムト秒レーザー加工特性/大阪大学/井澤友策/レーザー技術総合研究所・大阪大学/藤田雅之

 フェムト秒レーザ加工における諸現象は、概してピコ秒オーダーで進行する超高速現象である。Imaging Pump Probe測定装置を用いれば、時間分解能100fsが実現でき、そのような超高速現象の詳細を捉えることができる。本稿では単結晶Siを対象に、フェムト秒レーザ加工特性、およびImaging Pump Probe測定装置で捉えた加工発生の様子を紹介する。


○紫外光照射による酸化チタン膜の親水化反応/茨城大学/清水 淳・周 立波・梓沢慶介

 酸化チタン微粉末の焼結による酸化チタン膜を用い、表面性状が親水性に及ぼす影響を評価した。一連の検討の結果、最適調合比が割り出されたとともに、表面粗さあるいは表面積の増加に伴い、親水性は向上、すなわち光触媒機能は向上することが示された。



■ナノテク最前線
○近紫外線発光する酸化亜鉛ナノ粒子/島根大学/藤田恭久

 アーク放電を用いたガス中蒸発法により作製した酸化亜鉛ナノ粒子は単結晶に匹敵する発光特性を持ち、アクセプタである窒素のドーピングも可能である。本稿では、この方法で作製したナノ粒子の特性及びLEDや医療用蛍光標識剤の応用について紹介する。



■製品技術紹介
○コヒレント社の産業用ピコ秒発振レーザとその応用/コヒレント・ジャパン/山崎達三
○テレセントリック・レーザー方式欠陥検査装置/ケン・オートメーション/高尾邦彦
○超広視野レーザ走査イメージャ/オプセル/小俣公夫
○レーザー微細加工/アライドレーザー/有澤 孝

■研究室紹介
○近畿大学理工学部 藤野研究室/近畿大学/藤野隆由
Grinding Technology Japan 2025 SiC,GaN加工技術展 2025
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