日工の技術雑誌

クリーンテクノロジー 2008年3月号 PDF版
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クリーンテクノロジー 2008年3月号 PDF版

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■特集:最新半導体洗浄技術
○超臨界流体を用いた次世代半導体洗浄技術/Hattori Consulting International/服部 毅

著者らにより、次世代LSIプロセスにおいて微量の薬液を添加した超臨界CO2を用いたシリコン・ウエーハ表面洗浄の検討を行った。本稿ではその研究背景と成果について紹介する。またナノデバイスへの応用や大口径基板対応装置を用いた実用化に向けた検討についても、その一端を紹介する。

○高dose II剥離におけるSPMレス洗浄の検討/富士通/佐藤俊哉

一般的にS/D形成用途等々に用いられる高doseイオン注入後のレジスト剥離は高dose注入によってレジスト表面が硬化しているため、酸素プラズマDry処理後にSPM洗浄を行う。本稿では新たなアプローチとしてSPMそのものを無くす洗浄方法の検討結果について報告する。

○300mmウェーハ用超臨界CO2洗浄装置/エスペック/稲原順一

能力を有することについて解説する。またPSL粒子の除去効果について、粒子径の大きさとともに紹介する。

○酸化膜エッチング液の枚葉スピン洗浄への適用検討/Sachem Inc./Russell Stevens

本稿では、機能性ケミカルを精密分子設計することによる洗浄への新たなアプローチの方法を、半導体製造プロセスの大きな潮流である枚葉式装置を組み合わせて使用することで、次世代洗浄プロセスの一つの方向性を提案する

○母材損傷を最小化するための石英管洗浄薬液及び洗浄方法/JIWONTECH/Gi-Won Lee

JIWONTECH社が開発した石英管洗浄薬液及び洗浄方法について紹介する。この薬液と洗浄方法を組み合わせることで、母材損傷や環境負荷を最小化することができる。すでに韓国では実用化されており、日本での活用について提案する。


■コーヒーブレイク
○半導体洗浄技術最前線/服部 毅

米国電気化学会主催の「第10回半導体デバイス製造における洗浄および表面コンディショニング技術シンポジウム」が、昨年10月に開催された。本稿ではシンポジウムの報告とともに、課題事項などについて紹介する。



■特集:最新半導体洗浄技術
〔製品紹介〕
○環境配慮型ケミカルレス洗浄のための高温・高濃度オゾン水洗浄装置/アイシーエフ/久野 敏明

デバイス構造の微細化・複雑化、ウエーハの大口径化に伴い、従来のレジスト剥離技術では対応が困難な状況となってきている。本稿では高温・高濃度オゾン水製造装置を組み込んだ半導体ウエーハ洗浄装置について紹介する。

○HDIレジスト剥離装置/アクアサイエンス/森平恭太

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○ユニークな技術で45nm以降の半導体先端デバイスに対応/アプリシアテクノロジー/三浦和弘

45nmプロセス以降を見据えた開発・量産が進んでいる昨今、洗浄工程への要求は高度化、多様化している。このような洗浄プロセスにおける課題を克服すべく、今までの概念に縛られることのない、ユニークなアプリケーションについて紹介する。

○ウェット処理技術を中核とした次世代装置開発/エス・イー・エス/清水哲也

近年の半導体洗浄装置においては、半導体製造プロセス開発における微細化・多層配線化の進歩に伴い、従来の延長線上での清浄度・生産性の向上だけでは性能不十分となっている。本稿ではエス・イー・エス社の次世代装置開発について紹介する。

○大日本スクリーン製造の洗浄装置/大日本スクリーン製造/松永 聡

45nm世代のデバイス生産が本格的に立ち上がろうとしているが、その動きの中で、新たな課題も挙げられている。本稿では大日本スクリーン製造が新たに開発した洗浄装置3機種について紹介する。

○ダメージレス・メガソニック枚葉洗浄/丸紅/松角大介

近年、ウエーハの大口径化と歩留まり向上の要求から、枚葉洗浄技術のニーズが増えている。本稿では、米国Akrion社の洗浄装置を紹介するとともに、独自の枚葉メガソニック洗浄の取り組みについてもふれる。

○差込全周容着方式による継手商品化/フロウエル/三徳正孝・鈴木 勲

半導体設備の配管等において、一般的にフッ素樹脂の継手が使用されており、その大半は、ネジで締め付けるメカニカル継手である。本稿では、より一層の安全性を向上すべく開発した差込全周溶着方式の継手について紹介する。

○半導体用剥離・洗浄液/デュポン/平沢聡美

デュポン(株)イーケーシー・テクノロジー事業の剥離洗浄液としてAI配線用、Cu/Low-k世代の剥離洗浄液、CMP後洗浄液について紹介する。また新開発のWLP用厚膜レジスト剥離液を含むデュポンとすてのトータルソリューションについても紹介する。


■小特集:太陽光エネルギー技術の現状
○太陽光発電のさらなる発展にむけて/豊田工業大学/山口真史

地球環境問題やエネルギー問題を解決する手段として、大きな期待が寄せられている太陽電池を用いた太陽光発電の概要について解説する。太陽光発電の意義と動向、太陽電池生産の動向、太陽電池の研究開発動向と今後の展望について紹介する。

○薄膜系太陽電池の取組みについて/三菱重工業/石田信久

三菱重工業では、アモルファス型および微結晶タンデム型太陽電池の開発を行ってきた。共に薄膜系であり、原材料の制約がなく、低コストかつ高性能の太陽電池である。ここでは、開発の取組みと電池の特長について紹介する。

○太陽電池パネル製造プロセス向け排ガス除害・粉体処理装置/三菱化工機/岸本保之

近年太陽電池の市場は拡大基調にあるが、太陽電池のパネル製造装置からは大量のプロセスが排出されるため、効率的にそれらのガスを無害化できる装置のニーズが高まっている。本稿では新たに開発した排ガス除害装置について紹介する。


■解説
○超短工期を実現する「モバイルファシリティユニット」工法の実際/大気社/森 卓也

GMP適合が求められている医薬品製造関連施設に焦点をあて、現場での施工期間を超短期化することを目指して開発された大気社の「モバイルファシリティユニット」工法の概要を、施工事例に基づいて紹介する。

○新しく注目される化学物質PFOSの分析技術/住化分析センター/吉田寧子・木村義孝

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■シリーズ:研究室紹介
○横浜国立大学大学院 工学研究院 松本・中村研究室/横浜国立大学/松本幹治

■基礎講座:エンジニアリングのためのGMP豆知識9(最終回)
○医薬品製造における製薬用水の要件/GMPリサーチ/山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計/日本半導体製造装置協会

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