日工の技術雑誌

クリーンテクノロジー 2018年1月号
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L1801

クリーンテクノロジー 2018年1月号

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■特集:クリーンテクノロジー
○クリーンテクノロジーの変遷
/(株)テクノ菱和/田村 一
本特集では代表的な各種産業におけるクリーンテクノロジーについて、技術の変遷や最新動向を紹介していくことで、クリーンテクノロジーに関する技術全体の動向を紹介できるものと考えている。本稿は総論として、クリーンテクノロジーの変遷について概略を紹介する。

○半導体製造におけるクリーンテクノロジー
/新日本空調(株)/水谷 旬
前項では半導体製造におけるクリーンテクノロジーそのもの、もしくはそれに近い内容の動向について纏め、後半ではどちらかというと半導体自体やウェーハに関する内容を記すことで、半導体製造におけるクリーンテクノロジー、およびその他の関連動向について解説した。

○大型デバイス製造におけるクリーンテクノロジー
/清水建設(株)/長谷部弥・小松原正幸
本稿では、大型デバイス製造用クリーンルームのクリーン空調システムに関して、従来のシステムでは十分に取り組めていなかった省エネ・省資源化を目指したクリーン空調システムをいくつか紹介する。

○製薬施設における空調設備設計のポイント
/高砂熱学工業(株)/竹下健二郎
製薬業界の発展に伴い製薬施設の空調設備設計は、複雑、かつ高難易度になっている。本稿では、製薬施設の空調設備設計技術の普及のため、空調設備システム、室圧制御、除染方式について、最近の動向や事例を交え留意点を紹介する。

○リチウム電池製造におけるクリーンテクノロジー
/高砂熱学工業(株)/西村浩一
リチウム電池製造には、空気中の水分を極端に低減した「ドライルーム」と呼ばれる環境の中で製造される。過去のドライルーム技術から最新のドライルーム技術への変遷について解説する。

○製薬製造関連施設におけるクリーンテクノロジー
/ダイダン(株)/飯田修司
製薬製造関連施設の最適環境を維持する室圧制御について、室圧維持を阻害する各外乱と、それを抑制する最新技術、除染方式の比較概論や実験動物飼育施設における空調換気システムの動向などを紹介する。

○食品工場のクリーンルームとその管理
/コンサルタント・テクニカルライター/佐田守弘
食品工場におけるクリーンルームは、光学機器や電子部品などの製造と異なり、主に微生物汚染の防止に主眼がある。本稿では、食品工場に適用されるクリーンルームの規格とその適用、およびクリーンルーム管理のあり方について紹介する。

■解説
○ヒト皮膚から放散するたばこ煙由来成分の測定
/東海大学/関根嘉香・佐藤祥大/AIREX(株)/木村桂大
ヒト皮膚の表面から様々な揮発性有機化合物が放散され、その一部は体臭の原因になる。本稿では、能動喫煙者、さらには受動喫煙者の皮膚表面から、たばこ煙に由来するVOCsの放散が認められたので紹介する。

○細胞培養加工空間「スマートCPユニット」
/ダイダン(株)/古川 悠
(株)カネカと共同で、大規模なCPFの構築が難しいユーザーに対して、半開放型気流制御ブース「エアバリアブース」と閉鎖型自動細胞培養装置「P4CS」を組み合わせた細胞培養加工空間「スマートCPユニット」を提案している。本稿では、スマートCPユニットの概要について紹介する。

○水中の放射性セシウム濃度全量モニタリング装置
/日本金属化学(株)/斎藤英之
福島第一原子力発電所事故に伴い環境中に放出された放射性物質を含んだ排水を扱う施設において、水中の放射性セシウム濃度を、全量、原位置で高速モニタリングする装置「セシモニウォーター」を開発した。その特徴を紹介する。

○空気齢を用いた空気清浄機の性能評価と居住域での運用に関する留意点
/芝浦工業大学/諏訪好英/東京工業大学/鍵 直樹
本稿では、空気清浄機の性能評価と空気齢との関係について紹介し、さらに空気清浄器を実際の室内で運用する場合の留意点について考察する。

○数値シミュレーションによる空気清浄機のスギ花粉除去性能評価
/群馬大学/高橋俊樹・福田裕也
スギやヒノキの花粉はアレルゲンであり、その除去に空気清浄機が普及している。ここでは、室内に侵入した花粉除去を目的とした空気清浄機の利用を想定し、ラージエディーシミュレーション(LES)による乱流解析ならびに花粉挙動の解析の方法について説明する。さらに、花粉除去性能評価、窓や換気扇など開放系での計算例、家具の設置の影響、などを調査目的とした解析例を紹介する。

○パワー半導体製造工程におけるレーザアニーリング技術
/住友重機械工業(株)/川﨑輝尚
本稿では、薄板化が進むパワー半導体製造プロセスで不可欠な熱処理技術であるレーザアニーリングについて紹介する。

○マイクロバブルを利用した半導体ウェーハの洗浄技術
/(国研)産業技術総合研究所/高橋正好
半導体製造におけるフォトレジスト除去には硫酸過水という強力な薬液が主に利用される。ところがマイクロバブルという小さな泡を使うことで水ベースでの除去が可能になった。そのメカニズムや特徴について解説する。

■製品紹介
○MR技術を活用した数値流体シミュレーションの3D体感システム
/三機工業(株)/福森幹太

■研究室紹介
○早稲田大学基幹理工学部機械科学・航空学科精密工学研究室
/早稲田大学/川本広行

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