/日本工業出版(株)/

■特集:医薬品関連の最新技術・装置
○医薬品製造工程における最新技術
/(株)エアレックス/川崎康司・神農満雄・小川智丈・他
本稿ではグローブに関する運用とその最新技術について説明し、加えて気流によるバリア設備であるドラフトチャンバーでの必要排気風量を従来品と比べ1/10〜1/30と劇的に低減できる新概念の移動アクセスポートと、前述の最先端の電子線滅菌技術などについても解説することで、なお進化する医薬品製造工程でのバリア、無菌クリーン化技術を展望する。

○先端のバイオ医薬品製造工場のトータルエンジニアリング
/(株)ダイキンアプライドシステムズ/山本徹
バイオ医薬品製造施設建設に際しては、様々な課題解決が必須である。外部漏洩や感染防止はもちろんのこと、なによりも製品が周囲からの影響を受けてはならない。建設ハード面だけでなく、運用ソフト面にも踏み込んだトータルエンジニアリングの最新事例を紹介する。

○次世代型低風量ドラフトチャンパー/(株)ダルトン/春原伸次
ドラフトチャンバーは低風量化時代を迎えている。省エネと安全性向上の視点をふまえた低風量ドラフトチャンバーの考え方を整理すると共に、新機構「ユニオプトフロー」を搭載した次世代型ドラフトチャンバーの機能と特長について紹介する。

○医薬品製造施設におけるテクノ菱和の取り組み
/(株)テクノ菱和/田村一・清水和彦・菅田大助・海老根猛
医薬品製造環境の構築に際し、空調設備会社に対する要求事項は多様化している。当社はそれら多様なニーズに応えるべく、設備のライフサイクル一貫ソリューションを提供している。本稿では特に医薬品製造施設に対応した装置・システムとして、「医薬品製造業界向け中央監視システム」「クラウド型設備支援サービス」「完全無発塵オゾンレスイオナイザー」「室内循環型ホルムアルデヒド常温酸化分解装置」を紹介する。

○医療施設における有機溶剤曝露対策
/(株)トルネックス/神谷和彦・水野龍夫/北里大学病院/山下和也
現在、医療施設における病理診断の現場では種々の化学物質が使用されている。それらを化学物質の特性に応じて効率的に処理する方法を検討し、実験機を用いて効果を確認した。

○医薬品製造施設における防虫および異物混入対策機器
/日本エアーテック(株)/渡辺直樹
医薬品製造施設において、防虫及び異物混入防止対策として防虫用エアーカーテン、異物除去対策エアーシャワー装置など空気の力と物理的障壁を組み合わせた各種対策機器が使用されている。これらの装置の効果と運用及び保守について解説する。

○ナノ粒子の散乱光測定を可能にしたセルソーター
/ベックマン・コールター(株)/井野礼子
医学・生物学分野では汎用機器となったフローサイトメータは、散乱光パラメーターの限界を超えることで微生物学分野でも応用できるようになった。AstriosEQのナノ粒子の散乱光を測定する技術と微生物アプリケーション例を紹介する。

○環境モニタリング用培地の選定にあたって考慮すべき点
/メルク(株)/和田さと子
環境モニタリング用培地には、幅広い種の菌が生育することや、必要な場合には適切な不活化剤性能をもつことが求められる。培地を選定される際には発育性能だけでなく不活化性能も確認の上、選択されることを勧めたい。

■解説
○半導体業界における水使用の現状と今後の方向性
/(一社)電子情報技術産業協会/桜井博・岩本昌也
半導体製造において不可欠である水資源の活用、保護と、環境負荷低減のための水リサイクルに要するエネルギー消費ならびに付随するコストの最適化に向けた今後の半導体業界の方向性を提言する。

○半導体デバイス製造クリーンルームにおける気中ナノ粒子計測の展望
/(株)東芝/平野雅輝・黒田雄一
ナノ粒子による製品歩留り影響低減のため、半導体デバイス製造クリーンルーム内で気中ナノ粒子計測を進めている。計測の中で得られたナノ粒子の発塵挙動の知見、計測の課題、製品歩留り向上に向けた今後の動きについて報告する。

○空中浮遊微生物除去に有効な活性成分の評価と現状
/神奈川大学/西本右子
空中浮遊微生物除去に有効な活性成分として殺菌力との関わりが示されている活性酸素種を取り上げ、信頼性の高いと考えられる測定法を示し、あわせて静電霧化技術によって生成した静電霧化による微粒子水の測定例も示した。

○ナノバイオテクノロジー国際標準化動向/産業技術総合研究所/茂里康
ナノテクノロジーが、サイエンスからエンジニアリングへ、実験室から市場へと移行していく中で、国際標準化の必要性が認識されるようになってきた。本稿では、ISO/TC229(ナノテクノロジー)の活動を中心に、ナノバイオテクノロジーの国際標準化動向について解説する。

○電子ビーム描画装置における挑戦
/(株)ニューフレアテクノロジー/吉武秀介
光リソグラフィは、半導体デバイス(LSI)を大量生産するために不可欠な技術である。この光リソグラフィ技術に欠かせないのが、LSIの原版となるフォトマスクである。現在、このフォトマスクの生産には、電子ビーム(EB)を利用したEBマスク描画装置が使用されている。本稿では、現在LSI の試作に限定的に使用されているEBリソグラフィの位置付けと、EBマスク描画装置によるフォトマスク生産の課題について概説する。

○「強い農業」を実現する植物工場の導入メリットと新技術
/千葉大学/丸尾達
植物工場は、太陽光型植物工場と人工光型植物工場に分類されるが、いずれも我が国の技術レベルは世界有数の水準にある。近い将来我が国の農業人口は現在の1/3程度に激減し、高齢化も進展するが現状を打破し「強い農業」を推進するためには必要不可欠な分野である。

○新しい分級原理に基づく電気移動度分析による自動車排出粒子数測定
/(独)交通安全環境研究所/山田裕之/(株)島津製作所/奥田浩史
シースエアを用いない新たな分級法およびエレクトロメータの組み合わせによる、粒子数測定装置を開発した。本装置は振動に強くPN-PEMSへの応用が期待される。本装置によるDPF付ディーゼルトラックの排出粒子測定結果はPN測定結果とよく一致した。

■連載
○わかりやすく学べるクリーンルームの基礎と汚染対策 第29回
/新日本空調(株)/水谷旬

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