L1505
■特集:微生物の動向-耐性菌・評価・抗菌-
○食環境における抗菌薬耐性簡の現状/京都女子大学/横山佳子
「抗菌薬耐性菌」は感染症治療を困難にし、近年世界的に公衆衛生上の大きな問題になっている。抗菌薬耐性菌は地球規模で様々な環境に伝播・拡散している。本稿では、ヒトに身近な食品のうち食肉および野菜に分布する耐性菌の現状について紹介する。
○優れた抗菌性を示す銀ナノ粒子固定化技術の開発
/大阪大学/清野智史
放射線を利用した独自の手法により、繊維表面に銀ナノ粒子を固定化する技術を開発した。医療器具の滅菌等に利用されている放射線を照射するだけの簡便なプロセスで、繊維種を問わず銀ナノ粒子を直接担持できる。得られた銀担持繊維は非常に高い抗菌性と洗濯耐久性を示した。
○食用動物に由来する薬剤耐性菌の現状と対策
/岐阜大学/浅井鉄夫
家畜に抗菌性物質を使用することで選択される薬剤耐性菌が、食品を介してヒトに健康危害を与えることが問題視されるようになり、わが国においても薬剤耐性菌のコントロールに向けて、行政機関を中心に着実に進められている。
○医療機関・市中に分布する抗菌薬耐性菌/東邦大学/金山明子
抗菌薬耐性菌は主に医療機関に存在するが、医療機関以外の自然界、動植物、公共施設などの生活環境にも存在する。抗菌薬耐性菌への対策は、医療機関内のみの問題と捉えず、市中での分布の実態を把握する取り組みと、社会全体での対応策を必要とする。
○養殖環境における抗菌薬耐性菌/濁協医科大学/野中里佐
現在、養殖魚介類に対して約30種類の抗菌薬の使用が認可されているが、耐性菌の出現は古くからの問題である。近年、抗菌薬耐性菌の出現とその広がりは国際的な社会問題となっており、養殖魚を含む食用動物に対する抗菌薬使用にも注目が集まっている。
○断熱材内部の真菌採取法と透過率の測定
/松江工業高等専門学校/山田裕巳
本稿では、テフロンチューブによる真菌採取法の確立と断熱材中の真菌の移動を明らかにす目的で、チューブ内に残留する真菌の量を計測し、断熱空間内における真菌の挙動を把握し、その結果を纏めた。
○カピを同定する/(株)衛生微生物研究センター/李憲俊
各種工業製品に発生する主要汚染カビの形態を理解し、カビの同定を行ってみたい。または、今までカビの同定を試みたが、うまく出来なかった方達のために、カビの基本形態と胞子形成過程を写真や図で示しながら説明し、カビの形態観察を楽しんで頂きたい。
○空中浮遊微生物の除去性能評価の現状
/(一財)北里環境科学センター/菊野理津子・岡上晃・榊原正也
本稿では、空中浮遊微生物除去の評価試験に用いられる試験装置、試験微生物の選定根拠ならびに標準的な評価試験の概要について紹介するとともに、その他業界の標準化の取り組み状況について紹介する。
■解説
○空調機からの花粉侵入に関する研究
/(株)シミズ・ピルライフケア/山野裕美/関東学院大学/遠藤智行
ここでは、建物全体を考えた場合の室内への花粉侵入経路の一つとして、「空調機からの侵入」について解説する。また筆者らが行った、室内花粉と空調機からの侵入の実態について調査した結果について報告をする。
○特定悪臭物質のにおい表現のわかりやすさ/桜美林大学/藤倉まなみ
悪臭防止法の特定悪臭物質のにおい表現のうち、「腐った玉ねぎのようなにおい」は大学生の70%が、「腐ったキャベツのようなにおい」は同81%が、どのようなにおいか想像できなかった。そこで、これに代わる若い世代にわかりやすいにおい表現を提案した。
○量産リソグラフィ用100W級EUV光源開発の現状
/ギガフォトン(株)/溝口計・山崎卓・斎藤隆志
半導体製造の微細加工技術の心臓部である縮小投影露光装置
のリソグラフィ工程では180nm以降KrFエキシマレーザが、100nm以降ではArFエキシマレーザが量産装置として使用され、続く65nm以下の最先端量産ラインではArF液浸リソグラフィ技術が使用されている。さらに32nm、22nmのNANDフラッシュメモリの量産ではダブルパターンニング技術を実現する露光装置が導入され量産されている。本稿では、ArFエキシマレーザーリソグラフィの現状および次世代リソグラフィ用のCO2レーザー励起LPP-EUV光源の開発の現状・将来動向について報告する。
○メカノケミカル法によるTiO2微粒子の作製と光触媒能の著しい増加
/広島大学/齋藤健一
TiO2粒子の高速粉砕により、光触媒能が著しく増加した(130倍増)。この値は、市販のTiO2光触媒(P25)より60倍高かった。触媒能の著しい増加は、比表面積の増加のほか、高速粉砕で生成したdisorder相が重要であった。
○UVナノインプリントによる低転位GaN基板作製
/早稲田大学/岡田愛姫子・庄子習ー・水野潤
/東芝機械(株)/篠原秀敏・後藤博史
/古河機械金属(株)/砂川晴夫・松枝敏晴・碓井彰
/金沢工業大学/山口敦史
本稿ではUVナノインプリントを用いた低転位GaN基板作製技術について紹介する。GaN膜の転位密度を制御するため、ナノサイズのSiO2マスクを作製し、マスク上へのGaN結晶成長および転位密度の評価を行った。本手法では20μm厚のGaN膜の転位密度を4.5×107cm-2まで削減することに成功している。
○大阪府立大学の完全人工光型植物工場の紹介と新しい照明技術への期待
/大阪府立大学/安保正一・和田光生
当大学植物工場研究センターが取り組んでいる、「完全人工光型植物工場」における低コスト化の基盤要素技術開発の内容、それを展開した新世代大規模植物工場の概要、さらに、今後期待される新規な照明技術への期待とその理由に関して解説する。
■研究室紹介
○電池研究への挑戦/首都大学東京/金村聖志
※ご注意
・CD-Rでの販売となります。
・紙媒体からスキャンした画像データをpdf化しております、元の誌面に起因する汚れ、歪み、またスキャナの不調によるかたむき等はご容赦ください。
キーワード検索
カテゴリー
