/日本工業出版(株)/

■特集:省エネ環境に対応した製造工場での排水のクリーン化技術
○電子デバイス製造工場における排水回収への嫌気処理の適用
/栗田工業(株)/小松和也
当社で開発した嫌気処理技術「バイオセーバーRTK」は、新開発の担体を用いることで、これまで嫌気処理を適用できなかった電子デバイス製造工場の排水回収においても、高負荷かつ安定した処理が可能であり、排水処理の省エネと廃棄物量の削減に貢献する。

○液晶パネル製造工場の水回収
/野村マイクロ・サイエンス(株)/野口幸男・柳基典
液晶パネル製造工場では、多量の超純水を使用するが、排水の大部分は回収再利用している。本稿では、最新の液晶パネル製造工場の排水回収処理設備および技術を中心に紹介するとともに、プロセス改善まで含めた更なる排水回収の事例について紹介する。

○排水処理におけるマイクロバブルの納入例
/エンバイロ・ビジョン(株)/豊岡正志
排水処理においてマイクロナノバブル技術を応用できる範囲は極めて大きく、化学、食品、自動車、エレクトロニクスまであらゆる分野で応用可能であり、コストの低減を併せて可能にする。その実際の使用例をここに記載した。

○排水処理における溶存酸素計/(株)ティ・アンド・シー・テクニカル/菅原勇助
当社は2009年よりLEDを使用した光学式溶存酸素計を取り扱い始めた。メーカーはスイスのHAMILTON社で、同社は半世紀にわたりシリンジをはじめ自動化システム、センサー(DO・pH・ORP・導電率)の開発・製造・販売を行ってきた。今回は、光学式溶存酸素計(VISIFERM DO)、また排水処理における測定方法などを紹介する。

○排水中のふっ素濃度の連続監視/東亜ディーケーケー(株)/小川清
水質汚濁防止法で、工場などからの排水中の有害物資の濃度上限が定められ、これを超える水を排出してはならない。ふっ素は、一律排水基準として8 mg/Lの上限値が設定されている。最近では処理技術が進歩し、8mg/Lの基準をクリアすることも以前ほど難しくなくなってきており、暫定基準の適用範囲が狭められ、8mg/Lの基準値が幅広く適用されるようになってきた。このような動きに対応するため、ふっ化物イオン測定装置を紹介する。

○湿式2段階酸化方式による排水用TOC計/(株)ハック・ウルトラ/北田茂
本稿では、セルフクリーニング機能により、メンテナンスの実施を最大限に抑え、高濃度塩分、油脂類等様々な排水測定において、最大稼働率99%以上を誇る信頼性の高いTOC計を紹介する。

○高濃度酸素溶解装置「酸素ファイター」/(株)ハマネツ/秋山健一
高濃度酸素溶解装置「酸素ファイター」は、曝気方式とは全く異なる原理を応用した効率の良い気体の溶解装置である。従来の曝気方式では解決が困難であった溶存酸素の不足が原因となる様々な問題の解決を可能にする。

○フッ素含有廃水処理プロセス用の水質計/(株)堀場アドバンスドテクノ/山内進
当社はフッ素含有廃水処理プロセス用の水質計測器で多くの納入実績があり、本稿では、このアプリケーションに最適なpH計及びフッ化物イオンモニタについて紹介する。

■解説
○食品工場ドライ化の科学的根拠と清浄度の検証/石川県立大学/矢野俊博
ウェットシステムに比べドライシステムが衛生学的、微生物学的に優れている科学的根拠として、飛沫(跳ね水)現象の調査結果や微生物数を比較したデータを示した。また、清潔であることを検証する方法と評価基準について示した。

○自動車の車内環境測定/いすゞ自動車(株)/松永和彦
自動車の室内環境において乗員の健康と快適性を維持しかつ、省エネルギーなシステムを構築するため、空調性能の切り口から温熱環境の測定法に関して、ISO 14505のサーマルマネキンを用いた等価温度を紹介し、実際の測定事例を基に有効性を紹介する。

○エネルギー最適制御に向けた監視制御技術と適用事例
/オムロン(株)/八竹英紀・服部玲子
クリーン環境品質を維持するには多くのエネルギーが必要であり、一般空調のように省エネ目的で簡単に止めたり弱めたりすると品質に影響が出る可能性がある。本稿では省エネと品質の維持向上との最適化を目的とした当社工場の省エネ実現例について紹介したい。

○脱臭用エアフィルタの再生・再利用技術/ダイダン(株)/中野一樹
生活品質科学研究所のドラフトチャンバ排気系統におけるVOC対策として使用された、脱臭用エアフィルタの再生について報告する。超臨界CO2でフィルタを再生・再利用することにより、保守コストを抑えながら高い脱臭性能を維持することができる。

○フィルム製造および液晶ディスプレイ製造の環境制御
/(株)テクノ菱和/鈴木政典・佐藤朋且
半導体や液晶製造において、浮遊微粒子汚染防止の観点から清浄な製造環境(クリーンルーム)が必要とされている。半導体製造では、微粒子がシリコン基板(ウェーハ)上に存在した場合、デバイス特性劣化の原因となる。また、一方半導体製造等のクリーンルームは、一般に静電気の発生し易い湿度環境で、搬送やハンドリング時に、ウェーハやガラス基板が極めて帯電し易い。そして、その静電気帯電により、半導体や液晶製造工程において種々の静電気障害が発生し、それに伴い歩留り低下を引起し問題になっている。そのため、半導体や液晶製造のクリーンルームでは、清浄な製造環境を維持しつつ、静電気を除去する技術が求められている。本稿では、(1)半導体、液晶等の清浄な製造環境における静電気障害と、(2)その対策方法として、最新の2方式のクリーンルーム用イオナイザーについて述べる。

○製薬用水TOC測定への考察と提案(2)/布目技術士事務所/布目温
製薬用水中に危険な不純物はパイロジェンであり、これが残存する要因を前もって検知するためTOCを測定すると言っても良い。JPとUSP間にある、TOC試験法の差異を整理し、近い将来RTRT対応によるリスク管理のためには、TOC基準値を50ppbまで低下する必要性を提案する。

○リチウムイオン二次電池製造工程の環境制御/高砂熱学工業(株)/西村浩一
リチウムイオン二次電池は、空気中の水分を極端に低減した「ドライルーム」と呼ばれる環境の中で製造される。本稿では、製造工程で用いられるドライルームの概要と、ドライルームの用いられる乾式除湿機の新しい省エネルギー技術について解説を行う。

■連載:わかりやすく学べる　クリーンルームの基礎と汚染対策1
○クリーンルームとは何者か?/新日本空調(株)/水谷旬
■製品紹介
○効果的にピーク電力を抑える必要性とピーク電力監視装置
/オムロン(株)/木村隆文